临沂双成电源科技有限公司

磁控气体放电开始溅射有三个条件　　1、它具有适合的放电气压P:DC或脉冲，如果是磁控管放电，约0.1pA~10Pa），典型值为5x10-1pA；射频磁控管放电约为10-1~10-2Pa。　　2、其次，磁控管靶具有一定水平（或等效水平）的磁场强度B（约10MT~100MT），典型值为30~50mt，较小值为...

磁控溅射技术的优点都有啥？临沂双成电源科技有限公司简单介绍一下。磁控溅射镀膜是现代工业中不能缺少的技术之一。溅射镀膜技术较广的应用于透明导电膜、光学膜、超硬膜、防腐膜、磁性膜、减反射膜、减反射膜及各装饰膜。在国防和国民经济生产中发挥着越来越重要的作用。镀膜过程中的膜厚均匀性、沉积速率和靶材利用率等问题是实...

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磁控溅射过程中，等离子体的离子撞击靶材，溅射出靶材的原子、原子团、离子、电子、光子等，原子、离子、原子团沉积到基材上形成薄膜。溅射发生在靶材表面，靶材表面物理状态不均匀也没有关系，溅射的时候会先溅射凸起，溅射时间长了，靶材自己就平了。所以物理不均匀的状态不需要抛光。溅射过程不影响靶材合金、混合材质的比例和性质，所以如果...

磁控溅射是物理气相沉积（Physical Vapor Deposition，PVD）的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，而上世纪 70 年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的...