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新闻动态
【公司新闻 】
浅谈磁控溅射系统的工作原理
2025-09-05
临沂双成电源科技有限公司的工作人员告诉大家,磁控溅射是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。上世纪70年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射,必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶...
【行业动态 】
简析磁控溅射镀膜仪的用途都有哪些
2025-08-18
为了解决阴极溅射的缺陷,人们在20世纪70年代开发出了磁控溅射镀膜仪,它有效地克服了阴极溅射速率低和电子使基片温度升高的弱点,由于被溅射原子是与具有数十电子伏特能量的正离子交换动能后飞溅出来的,因而溅射出来的原子能量高,有利于提高沉积时原子的扩散能力,提高沉积组织的致密程度,使制出的薄膜与基片具有强的附着力,因而获得了...
【行业动态 】
浅析磁控溅射镀膜系统的原理是什么
2025-07-24
临沂双成电源科技有限公司的工作人员告诉大家磁控溅射镀膜的原理是在电场的作用下,由异常辉光放电产生的等离子体被轰击在阴极靶的表面上,并且靶表面上的分子,原子,离子和电子被溅射并溅起。所发射的颗粒具有一定的动能,并且沿一定的方向被导向基板的外表面,以在基板的表面上形成镀层。溅射涂层开始表现出简单的直流偶极溅射。其优点是设备...
【公司新闻 】
磁控溅射镀膜的优点都有哪些
2025-06-26
临沂双成电源科技有限公司
【公司新闻 】
磁控溅射镀膜过程是什么样子的
2025-05-31
溅射产额随入射离子能量变化的简单示意图,简称溅射曲线。临沂双成电源科技有限公司带你了解更多!颜色可以做到比较深,耐磨性能也很好,但其色调不够纯正,总是黑中略带黄色。并且由于钛的熔点相对较低,在溅射时易出现大的颗粒,使其光令度不易得到改善。溅射镀膜过程主要是将欲沉积成薄膜的材料制成靶材,固定在溅射沉积系统的阴极上,待沉积...
【专题报道】
现代工业中不可缺少的磁控溅射镀膜技术
2025-04-22
磁控溅射镀膜在高清PET基材上进行多层贵金属磁控溅镀,通过对溅射的金属层数和种类的设计达到光谱选择的目的,从而实现可见光高透过。临沂双成电源科技有限公司带你了解更多!磁控溅射镀膜是现代工业中不可缺少的技术之一,磁控溅射镀膜技术正广泛应用于透明导电膜、光学膜、超硬膜、抗腐蚀膜、磁性膜、增透膜、减反膜以及各种装饰膜。磁控溅...
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