磁控溅射是物理气相堆积的一种,磁控溅射通过在靶阴极外表引入磁场，使用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。磁控溅射工艺在日常操作过程中有哪些常见的毛病呢？临沂双成电源科技有限公司的工作人员在这里给大家简单介绍一下。 

无法起辉 

1、直流电源毛病，查看直流电源；

2、氩气进气量小，查看氩气流量计或加大氩气进气量；

3、真空室清洁度不行，清洁真空室；

4、靶材绝缘度不行，查看靶是否与地短路，在通水的情况下，对地电阻应该在 50kΩ以上；

5、磁场强度不行，查看永磁体是否消磁；

6、真空度太差，查看真空体系。 

辉光不稳 

1、电压电流不稳，查看电源;

2、真空室压力不稳，查看氩气进气量及真空体系；

3、电缆毛病，查看电缆是否连接良好。

成膜质量差

1、基片外表清洁度差，清洁基片外表；

2、真空室清洁度差，清洁真空室；

3、基片温度过大或过小，查看温控体系，校准热电偶；

4、真空室压力过大，查看真空体系；

5、溅射功率设置不当，查看直流电源，设置何事的设定功率。 

溅射速率低

1、氩气进气量过大或过小，调查辉光色彩可以判定氩气是过大仍是过小，据此调整氩气进气量；检修流量计；

2、靶材过热，查看冷却水流量；

3、查看永磁体是否消磁。