磁控溅射系统的原理是电子在电场E的作用下飞向衬底的过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生ar正离子和新的电子。Ar离子在电场作用下向阴极靶加速，以高能轰击靶表面，从而溅射靶材。 该技术包括许多类型。每种方法都有不同的工作原理和应用对象。然而，它们有一个共同点：磁场和电场之间的相互作用使电子围绕靶表面旋转，从而...

辉光等离子体溅射的基本过程是在辉光等离子体中的高能离子作用下，将负电极的靶原子从靶中溅射出来，然后凝聚在衬底上形成薄膜；在这个过程中，靶表面同时发射出二次电子，起到电子作用维持等离子体稳定存在的关键作用。溅射技术的出现和应用经历了多个阶段。起初，它是简单的二极和三极放电溅射沉积。经过30多年的发展，磁控溅射技术已...

直流磁控溅射电源工作于高频变换模式，直流输出，电源电流调整通过改变高频变换的脉冲宽度来实现。